Công ty Nhật Bản phát triển phương pháp plasma mới để sản xuất perovskite

Công ty Sumitomo Heavy Industries (SHI) của Nhật Bản đã phát triển một phương pháp mới dựa trên plasma gọi là Phủ Plasma Phản ứng (Reactive Plasma Deposition - RPD) để sản xuất lớp vận chuyển electron (ETL) trong pin mặt trời perovskite. Lớp này rất quan trọng vì nó giúp dòng electron di chuyển từ perovskite đến điện cực. Khác với các phương pháp sản xuất ETL truyền thống thường sử dụng nhiệt độ cao, các hạt có tính ăn mòn hoặc khí độc—thường làm hư hại vật liệu perovskite mỏng manh—phương pháp RPD của SHI lắng đọng các màng oxit thiếc (SnO₂) siêu mỏng ở nhiệt độ thấp bằng cách sử dụng khí không độc hại. Cách tiếp cận này được cho là nhanh hơn 200 lần và chi phí chỉ khoảng 0,5% so với chi phí sản xuất ETL hiện tại, làm cho nó an toàn hơn, thân thiện với môi trường và rất phù hợp cho sản xuất hàng loạt. Mặc dù công nghệ này đánh dấu một bước đột phá lớn khi cho phép sản xuất ETL với chi phí thấp, quy mô lớn và giảm thiểu hư hại, SHI cũng thừa nhận vẫn còn những thách thức như chi phí vật liệu cao và việc xử lý các khí tiền chất dễ cháy hoặc độc hại.